設備

FACILITIES

保有設備・備品

FACILITIES & EQUIPMENT

お客様の開発のお手伝いをするとともに、量産化へのお手伝いもいたします。
高性能レーザの開発・製造に必要なクリーンルーム等の設備や金属加工、半導体基板加工などの各種加工設備を有しております。

各種検査装置
工作機器

設備・備品

レーザ開発

パワーメータOphir StarLite
パワー&エネルギーメータCoherent LaB Max-Pro SSIM
ビームプロファイラCinogy CMOS-1201
高速サーモパイルCoherent PM-P 150F HD
サーモパイルCoherent PM150-50
サーモエレクトリックチラーARC150-110VAC

電気・電子回路開発

PCB設計Altium Designer
ワットメータDW-6163ワットメータ
信号発生器FeelTech FY6600-60M
温調器アンペール UTC200A
マイコンMicrochip
PICマイコン-MPLAB X IDE
デジタルオシロスコープTektronix TDS3052

加工評価・観察

赤外線カメラFLIR A6751
デジタルマイクロスコープキーエンス VHX-8000
白色干渉計搭載レーザ顕微鏡キーエンス VK-X3000

保有加工機(デモ機)

DEMO MACHINES

半導体レーザ(915nm、450nm)

光学系:
同軸ヘッド、温度制御付
用 途:
半田付け、溶着、加熱、溶接等

CWファイバーレーザ(1064nm)

光学系:
同軸ヘッド、温度制御付
用 途:
微細溶接、微細接合等

QCWファイバーレーザ(1064nm)

光学系:
ガルバノ光学系、同軸ヘッド
用 途:
溶接、接合等

短パルス ナノ秒レーザ(1064nm)

光学系:
ガルバノ光学系、同軸ヘッド
用 途:
微細接合、溶接、穴あけ等

超短パルス ピコ秒レーザ(532nm)

光学系:
ガルバノ光学系、精密ステージ
用 途:
薄膜除去等の非熱加工

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